- 公司技術
- 京華堂之創新技術層次
- 全球極少數以PVD ( Physical Vapor Deposition ) 物理氣相沉積技術應用製造貴金屬材料
- 京華堂是全球極少數以PVD ( Physical Vapor Deposition ) 物理氣相沉積技術應用於貴金屬材料，在真空環境以特殊冷凝分散裝置，使貴重金屬均勻分散成不同粒徑大小，並開發出近30種以上之分散粒徑及磊晶結構。
- 關鍵創新技術
- PVD (Physical Vapor Depocition) 與真空冷凝分散技術
- PVD以 PVD ( Physical Vapor Deposition ) 獨有物理氣相沉積技術標準化製程管制加工
- 真空冷凝分散技術在真空環境下使用特殊冷凝分散裝置，成功的解決貴重金屬氣相加工技術瓶頸
